Tolérance au stress salin

L’application de dioxyde de nano-silicium améliore la tolérance au stress salin dans les fraisiers

L’application de silicium peut améliorer la productivité des plantes soumises à un stress salin. Une nouvelle étude décrit comment les fraisiers réagissent aux traitements, y compris diverses combinaisons de stress salin et de dioxyde de nanosilicium, et évalue si le dioxyde de nanosilicium améliore la tolérance des fraisiers au stress salin.

Les fraisiers ont été traités avec du sel (0, 25 ou 50 mM NaCl), et les traitements au dioxyde de nanosilicium ont été appliqués aux fraisiers avant (0, 50 et 100 mg L-1) ou après (0 et 50 mg L-1) la floraison. Les traitements de stress salin ont réduit la biomasse végétale, la teneur en chlorophylle et la teneur relative en eau des feuilles (CRF) comme prévu.

Par rapport aux plantes témoins (sans NaCl), les plantes traitées au sel présentaient un indice de stabilité membranaire (IMS) inférieur de 10 %, une teneur en proline supérieure de 81 % et une transpiration cuticulaire supérieure de 54 %, ainsi qu’une température accrue du couvert et des changements dans la structure de la couche de cire épicuticulaire. Les plantes traitées avec du dioxyde de nanosilicium ont été mieux en mesure de maintenir la structure épicuticulaire de la cire, la teneur en chlorophylle et la teneur en caroténoïdes et ont accumulé moins de proline par rapport aux plantes traitées uniquement avec du sel et sans dioxyde de nanosilicium.

L’analyse d’images au microscope électronique à balayage (MEB) a révélé que les traitements au sel ont entraîné des changements dans le type et l’épaisseur de la cire épicuticulaire et que l’application de dioxyde de nanosilicium a supprimé les effets négatifs de la salinité sur la couche de cire épicuticulaire. Les plantes soumises à un stress salin et traitées au dioxyde de nanosilicium présentaient des dépôts de cire cristalline irréguliers (plus lisses) dans leur couche épicuticulaire.

L’ensemble de ces observations indique que l’application de dioxyde de nano-silicium peut limiter les changements anatomiques et biochimiques défavorables liés aux impacts du stress salin sur les fraisiers et que cela est, en partie, associé au dépôt épicuticulaire de cire.

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